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石墨靶材的優異特性

• 高熱穩定性

  石墨靶材在高功率、高溫濺射工藝中仍能保持穩定性能，保證石墨靶材薄膜沉積均勻，凸顯石墨靶材的高溫適配優勢，適配嚴苛濺射場景。

• 低熱膨脹系數

  石墨靶材在溫度變化下尺寸穩定，減少沉積應力，提升膜層致密性和附著力，進一步保障石墨靶材的濺射品質，滿足高端鍍膜需求。

• 優良導電性

  石墨靶材導電性能良好，適合制備電子器件、功能薄膜及導電層，彰顯石墨靶材的電學優勢，拓展石墨靶材的應用場景。

石墨靶材的廣泛應用

1. 半導體制造

   石墨靶材用于制備導電薄膜、碳阻擋層和互連層，石墨靶材可保證器件的高性能和穩定性，適配半導體高端制造的嚴苛要求。

2. 光學器件制造

   石墨靶材用于碳薄膜、抗反射膜和紅外吸收膜的制備，廣泛應用于光學元件、激光器件及紅外窗口，提升光學器件的核心性能。

3. 光伏行業

   石墨靶材用于光伏電池背電極、燃料電池碳層以及超級電容器導電層，石墨靶材能提升能源轉換效率和器件壽命，助力光伏產業高效發展。

4. 航天航空

   石墨靶材沉積的膜層可作為高溫保護涂層，石墨靶材能提高航天航空部件的耐熱性和耐磨性，保障部件在極端環境下穩定運行。