解決方案
光學
主要靶材：Si、 SiB、 SiO2、 Nb、 Nb2OX、 Ti、 TiOX、 Al、 Cr、 Zr、 Hf、 Ta、 Ge
蒸鍍材料：MgF2、 Nb2O5、 Al2O3、 Ta2O5、 HfO2、Ti3O5、 SiO2/AI2O3、 H4、 YbF3、 SiO2、 TiO2、 ZrO2
以上靶材是光學薄膜沉積的關鍵材料，可為各類光學元件提供高均勻性、高致密度及穩定性膜層，在光學增透鍍膜、光通信鍍膜及光學玻璃鍍膜等多個細分領域發揮重要作用。
1. 光學增透鍍膜
高純度靶材沉積的薄膜可有效降低表面反射、提高透光率，廣泛應用于鏡頭、攝像頭、顯示器及光伏玻璃等器件，顯著改善成像質量與光能利用效率。
2. 光通信鍍膜
靶材沉積的低損耗、高穩定性薄膜適用于光纖、波導及濾波器等光通信元件，提升信號傳輸效率和系統可靠性，滿足高速、大容量通信需求。
3. 光學玻璃鍍膜
靶材用于光學玻璃的增透、防反射、防刮擦及濾光膜層制備，不僅提升玻璃光學性能和耐久性，還可實現防紫外、減反射、耐腐蝕等功能，適用于科研、醫療和消費電子等場景。
重要作用
提高透光率和光能利用率
降低反射和光損耗
增強膜層耐久性與穩定性
賦予光學器件更多功能與創新性能
