產品介紹
氧化鈦靶材是一種以高純二氧化鈦為主要成分,經熱壓燒結或冷等靜壓等工藝制備而成的陶瓷靶材。其具有高硬度、高熔點(約 1855℃)、化學穩定性好等特點,是磁控濺射制備光學薄膜、功能薄膜的重要材料。
氧化鈦靶材(TiOx)的優異特性
氧化鈦靶材常用純度 ≥ 99.9%,雜質含量極低,能有效減少薄膜缺陷,提高光學和電學性能穩定性。
優異的化學穩定性
氧化鈦靶材耐酸堿腐蝕,在高溫、高濕等惡劣環境中依然保持性能不變,延長薄膜壽命。
出色的光學性能
具有高折射率和優良透光率,能夠制備高性能光學膜層,適用于防反射膜、增透膜等領域。
致密均勻的微觀結構
采用先進成型與燒結工藝,使靶材顆粒細致均勻,成膜速率穩定,薄膜厚度一致性好。
良好的機械強度與耐熱性
熔點高達約 1855℃,在高功率濺射條件下不易開裂或破損,適應長時間連續生產。
氧化鈦靶材(TiOx)的廣泛應用
光學器件制造
氧化鈦靶材制備高折射率薄膜,用于光學鏡頭、防反射膜(AR Coating)、增透膜、濾光膜等,提高透光率與成像質量。
光伏行業
作為透明導電膜(TCO)的保護層或功能層,提高光吸收效率與器件穩定性,廣泛應用于太陽能電池和光催化薄膜制備。
半導體制造
氧化鈦靶材用作介電層、保護層薄膜和絕緣層材料,提升芯片及電子器件的穩定性與絕緣性能。
低輻射(Low-E)節能玻璃
氧化鈦靶材作為功能層材料,改善玻璃的隔熱與透光性能,減少能耗,廣泛用于建筑節能領域。
技術特性

純度
≥99.9%

相對密度
≥97%
應用場景
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