解決方案
RPD靶材/蒸鍍材料
主要靶材：Cu、Ti、Al、RPD材料、Yb、Ni、Ag、ITO、ZrO2、H4
能夠沉積高純度、高均勻性、致密穩定的膜層，實現優異的光學、電學及機械性能。高性能靶材在薄膜制備過程中保證材料的一致性和穩定性，為平板顯示、光學、光伏、半導體、功能薄膜等領域提供可靠的材料基礎。
1. RPD靶材應用
靶材在RPD工藝中用于高精度薄膜沉積，可實現低電阻、高透過率及高均勻性的膜層，滿足大面積顯示、觸控屏及光學器件的嚴格性能要求。同時，高穩定性靶材可支持大規模量產和重復加工，提高生產效率。
2. 蒸鍍材料應用
靶材可用于物理氣相沉積（PVD）或真空蒸鍍工藝，制備光學薄膜、導電膜及功能膜層。高純度、高致密度靶材保證膜層均勻性、附著力和化學穩定性，廣泛應用于顯示面板、太陽能電池、光學器件、功能玻璃及裝飾鍍膜等高端領域。
重要作用
提高膜層均勻性與功能性能
提升光學、電學及機械性能，滿足高端應用需求
保證材料一致性與大規模生產穩定性
