產(chǎn)品介紹
銦濺射靶材是一種以高純度金屬銦為原料制備的功能靶材，銦靶材外觀呈銀灰色，具有良好的金屬光澤。銦靶材的物理參數(shù)包括：熔點為156.61℃，沸點為2060℃，密度為7.3 g/cm3。銦靶材的核心原料銦屬典型的軟質(zhì)金屬，機械強度低，易被指甲劃傷，銦靶材具備良好的可塑性和延展性，便于加工成各種形狀的靶材。
銦靶材在真空薄膜技術中具有重要應用價值，尤其適用于電子器件、光伏組件、觸控面板等領域的薄膜制備。銦靶材一大特性是對玻璃及類似基底具有良好的附著力，在蒸發(fā)或磁控濺射過程中，銦靶材可形成均勻、致密的導電膜或功能膜層。純銦常用于半導體工藝中的金屬化過程，銦靶材是制造透明導電膜、電極連接層等關鍵結(jié)構(gòu)的重要材料之一。
銦靶材的優(yōu)異特性
高純度
可提供99.99%、99.999%（4N、5N）級別的銦靶材，高純度銦靶材確保膜層純凈、均勻，滿足高端鍍膜工藝的嚴苛要求，彰顯銦靶材的核心品質(zhì)優(yōu)勢。
優(yōu)異延展性
銦靶材柔軟，易加工，銦靶材適用于異形靶、多種尺寸的鍍膜設備，提升銦靶材的適配性，滿足不同場景個性化鍍膜需求。
低熔點特性
銦靶材具備低熔點特性，適用于對溫度敏感的基材，銦靶材常用于低溫沉積工藝，凸顯銦靶材的工藝優(yōu)勢，適配特殊基材鍍膜需求。
優(yōu)良的導電性
銦靶材具備優(yōu)良的導電性，有助于提升銦靶材制備薄膜的導電性能，銦靶材特別適用于透明導電膜制備，體現(xiàn)銦靶材的電學優(yōu)勢。
銦靶材的廣泛應用
半導體制造
銦靶材制備的銦薄膜可作為高端半導體封裝的釬焊層，憑借銦靶材低熔點（156.6℃）特性，實現(xiàn)低溫釬焊，避免高溫對芯片性能的損傷，銦靶材提升封裝的密封性和導熱性，成為半導體高端封裝不可或缺的關鍵材料。
光伏行業(yè)
針對柔性薄膜光伏面板（如柔性 CIGS 電池），銦靶材可與鋅、錫等靶材搭配，制備銦基復合透明導電薄膜。該薄膜兼具高透光率（＞85%）和優(yōu)異柔韌性，適配柔性光伏組件的輕量化、可彎曲需求，助力光伏產(chǎn)業(yè)柔性化升級。
顯示面板
柔性 OLED 面板對水汽和氧氣極為敏感，銦靶材沉積的銦薄膜具有優(yōu)異的延展性和密封性，銦靶材可作為柔性 OLED 的阻隔層，有效阻擋外界水汽和氧氣侵入，將器件的使用壽命延長 3-5 倍，適配高端柔性顯示領域需求。
- 光學器件銦靶材制備的銦薄膜具有優(yōu)異的紅外反射特性和紅外透過調(diào)節(jié)能力，是紅外光學器件鍍膜的理想材料。通過銦靶材濺射沉積，可制備紅外探測器、激光測距儀、熱成像儀等設備的紅外反射膜、增透膜和濾光膜。這些薄膜能提升光學器件對特定波段紅外光的響應效率，優(yōu)化成像質(zhì)量和探測精度，銦靶材廣泛應用于軍事偵察、安防監(jiān)控、醫(yī)療影像等高端紅外光學領域。
技術特性
純度
99.99%-99.999%
密度
7.3 g/cm³
應用場景
半導體制造
光伏行業(yè)
顯示面板
光學器件制造
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