產(chǎn)品介紹
鋯靶材是以高純度金屬鋯（Zr）加工制備的濺射靶材，鋯靶材具有低吸氫性、高熔點（1855℃）、優(yōu)異的耐腐蝕性和良好的導熱性，鋯靶材廣泛應用于半導體、光學鍍膜、功能涂層等領域。由于鋯靶材的核心原料鋯具有優(yōu)良的物理、化學性能和與氧的親和性，鋯靶材在真空濺射環(huán)境下能穩(wěn)定形成高質量薄膜，是高端鍍膜領域的優(yōu)質核心耗材。
鋯靶材的優(yōu)異特性
高純度
鋯靶材通常純度可達99.5%~99.9%，高純度鋯靶材保證金薄膜電學、光學性能穩(wěn)定，滿足高端鍍膜工藝的嚴苛要求，彰顯鋯靶材的核心品質優(yōu)勢。高熔點
鋯靶材熔點約1855℃，鋯靶材可在高溫工藝條件下保持穩(wěn)定，凸顯鋯靶材的高溫適配能力，適配高溫鍍膜場景需求。優(yōu)異耐腐蝕性
鋯靶材對酸、堿、鹽類及多數(shù)化學介質具有強耐腐蝕性，鋯靶材適合惡劣環(huán)境使用，延長鋯靶材使用壽命和膜層服役周期，提升應用可靠性。低中子吸收截面
鋯靶材具有低中子吸收截面，在核工業(yè)中具有重要應用，鋯靶材尤其用于核反應堆部件及其鍍膜，彰顯鋯靶材在核工業(yè)領域的獨特優(yōu)勢。
- 氧親和性強鋯靶材在濺射過程中容易與氧結合，鋯靶材可制備高質量氧化鋯（ZrO?）薄膜，鋯靶材應用于光學鍍膜、絕緣膜等領域，拓展鋯靶材的光學及電子應用場景。
鋯靶材的廣泛應用
半導體制造
鋯靶材用于制造阻擋層、介電層或電極材料，鋯靶材可提升器件性能和穩(wěn)定性，成為半導體制造不可或缺的關鍵材料，助力半導體產(chǎn)業(yè)高端化發(fā)展。
光學器件制造
鋯靶材用于生產(chǎn)高折射率薄膜，如光學濾光片、防反射膜等，鋯靶材可提升光學器件的光學性能，適配高端光學領域需求。
硬質涂層
鋯靶材常與氮化物結合（ZrN），制備耐磨、防腐蝕膜層，鋯靶材用于工具鍍膜和裝飾鍍膜，兼具防護與裝飾功能，拓寬鋯靶材的應用范圍。
核工業(yè)
由于鋯靶材的核心原料鋯的低中子吸收特性，鋯靶材及其膜層在核反應堆相關部件中有特殊應用，鋯靶材是核工業(yè)領域不可替代的功能性材料之一。
技術特性
純度
99.9%
密度
6.52 g/cm³
應用場景
半導體制造
光學器件制造
硬質涂層與裝飾涂層
核工業(yè)
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