產(chǎn)品介紹
鉑靶材是由高純鉑金屬制成的靶材，鉑靶材常用于磁控濺射、蒸鍍和離子鍍等真空鍍膜工藝。憑借鉑靶材自身極高的化學(xué)穩(wěn)定性、耐腐蝕性及耐高溫性能，鉑靶材能夠在苛刻工況下形成均勻致密的薄膜，為電子器件、光學(xué)元件及高端裝飾品提供可靠材料基礎(chǔ)，是高端鍍膜領(lǐng)域的優(yōu)選靶材。
鉑靶材的優(yōu)異特性
高化學(xué)穩(wěn)定性
鉑靶材幾乎不與酸、堿、氧化劑反應(yīng)，適合制備耐腐蝕薄膜和在惡劣環(huán)境下使用的器件，彰顯鉑靶材的核心耐腐優(yōu)勢，適配苛刻使用場景。
耐高溫性能優(yōu)異
鉑靶材熔點(diǎn)高達(dá)1768℃，鉑靶材制備的薄膜和鉑靶材本身在高溫加工及高功率應(yīng)用中仍保持穩(wěn)定，凸顯鉑靶材的高溫適配能力。
優(yōu)異導(dǎo)電與導(dǎo)熱性能
鉑靶材具備優(yōu)異導(dǎo)電與導(dǎo)熱性能，保證鉑靶材沉積薄膜在電子器件和光電器件中具有高導(dǎo)電性和良好熱管理能力，體現(xiàn)鉑靶材的電學(xué)優(yōu)勢。
高致密性與均勻性
先進(jìn)熔煉工藝確保鉑靶材組織致密均勻，鉑靶材鍍膜時(shí)膜層厚度一致性高，提升器件性能穩(wěn)定性，保障鉑靶材的濺射品質(zhì)。
鉑靶材的廣泛應(yīng)用
光學(xué)鍍膜
鉑靶材用于高反射鏡、光學(xué)濾光片、光通信鏡片等元件，鉑靶材可提升透光率、反射均勻性與耐用性，確保光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定運(yùn)行，適配光學(xué)領(lǐng)域高端需求。
裝飾鍍膜
鉑靶材在珠寶、手表、手機(jī)、汽車內(nèi)飾件等表面形成金屬光澤膜，不僅美觀高檔，還具備耐磨、耐腐蝕和抗氧化性能，拓展鉑靶材的應(yīng)用場景。
電子器件
鉑靶材在半導(dǎo)體、電極、傳感器及MEMS器件中用于制備導(dǎo)電膜和功能層，鉑靶材可保證器件的電性能和長期穩(wěn)定性，助力電子器件高端化發(fā)展。
技術(shù)特性
純度
99.99%
相對密度
≥99%
應(yīng)用場景
光學(xué)鍍膜
裝飾鍍膜
電子器件
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