產品介紹
鉿靶材是以高純度金屬鉿(Hf)制備的濺射靶材,鉿靶材具有高熔點(約2227℃)、優異的耐腐蝕性、良好的延展性和出色的熱中子吸收性能,鉿靶材廣泛應用于半導體制造、光學鍍膜、核工業和高溫合金領域。鉿靶材的核心原料鉿在電子和能源產業中是重要的戰略材料,尤其在先進芯片工藝和核反應堆中有著獨特地位,鉿靶材更是成為戰略級鍍膜領域的核心耗材。
?鉿靶材的優異特性
超高熔點與熱穩定性
鉿靶材在高溫環境中仍能保持結構穩定,鉿靶材適用于高溫鍍膜工藝和極端工況,凸顯鉿靶材的高溫適配優勢,適配極端環境使用需求。優異的耐腐蝕性能
鉿靶材對多數酸、堿及化學介質具有極強的耐腐蝕性,鉿靶材可在惡劣環境下長期使用,延長鉿靶材使用壽命和膜層服役周期,提升應用可靠性。高純度與優良薄膜性能
鉿靶材濺射成膜均勻致密,鉿靶材制備的鉿基化合物(如HfO?)在光學紫外波段吸收小,是主要的高折射材料,鉿靶材能滿足半導體、光學鍍膜對高介電常數薄膜的嚴格要求,彰顯鉿靶材的核心品質優勢。在先進半導體工藝中的關鍵作用
鉿靶材制備的鉿基化合物(如HfO?)是高k介質材料核心,鉿靶材廣泛用于先進邏輯器件和存儲芯片,鉿靶材可提升集成度并降低功耗,適配半導體高端制程需求。
?鉿靶材的廣泛應用
半導體制造
鉿靶材是制備高介電常數(High-k)薄膜的重要材料,如HfO?薄膜,鉿靶材被廣泛用于先進邏輯器件、MOSFET、DRAM存儲器等工藝中。鉿靶材的高k特性能夠有效降低器件漏電流,提升集成度和性能,鉿靶材是當前7nm及更先進工藝不可或缺的關鍵材料。
光學器件制造
鉿靶材在光學行業用于制備高折射率的HfO?薄膜,鉿靶材常應用于激光光學系統、干涉濾光片、紅外窗口、精密光學鏡頭等器件,鉿靶材能夠顯著提升光學透過率和耐高溫性能,滿足高端光學系統對薄膜質量的嚴苛要求。
核工業
由于鉿靶材的核心原料鉿具有極高的中子吸收截面,鉿靶材濺射成膜后可用于核反應堆的控制系統和防護結構。鉿靶材制備的鉿涂層在核能運行安全方面發揮關鍵作用,鉿靶材是核能領域不可替代的功能性材料之一。
航空航天及高溫防護
鉿靶材用于制備耐高溫氧化涂層,鉿靶材為噴氣發動機、燃氣輪機葉片等高溫部件提供氧化和腐蝕防護。鉿靶材的高熔點和化學穩定性使其在航空航天等極端環境下保持可靠性,提升整體系統壽命,適配航空航天高端領域需求。
技術特性

純度
99.9%-99.99%

密度
13.31 g/cm³
應用場景
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