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氧化鋁靶材(Al?O?)

Al?O? target

眾誠(chéng)達(dá)

陶瓷靶材

氧化鋁靶材(Al?O?)

高純度
高致密
高均勻

產(chǎn)品介紹

氧化鋁靶材(Al?O? target)是薄膜沉積常用核心材料,由高純度氧化鋁制成,具備高熔點(diǎn)、優(yōu)異化學(xué)穩(wěn)定性與良好熱導(dǎo)性,廣泛應(yīng)用于真空鍍膜、濺射技術(shù)等工藝,適配多領(lǐng)域嚴(yán)苛使用場(chǎng)景,氧化鋁靶材憑借這些優(yōu)勢(shì),成為眾誠(chéng)達(dá)核心優(yōu)勢(shì)產(chǎn)品之一。


氧化鋁靶材(Al?O?)的優(yōu)異特性

  • 高致密

    通過(guò)熱壓設(shè)備技術(shù)改造,眾誠(chéng)達(dá)對(duì)高致密氧化鋁靶材的成型工藝進(jìn)行深度優(yōu)化,致密度提升至 90–95%,比行業(yè)平均水平減少 30% 濺射顆粒脫落,顯著增強(qiáng)氧化鋁靶材強(qiáng)度與穩(wěn)定性。

  • 高純度

    選用特制原料粉末,雜質(zhì)極低,純度≥99.99%,遠(yuǎn)超行業(yè)常規(guī)標(biāo)準(zhǔn),避免雜質(zhì)干擾薄膜性能,滿足高端制造嚴(yán)苛需求,彰顯眾誠(chéng)達(dá)氧化鋁靶材的品質(zhì)優(yōu)勢(shì)。

  • 高均勻

    反復(fù)校準(zhǔn)燒結(jié)參數(shù),保證溫控均勻,確保氧化鋁靶材不同區(qū)域?yàn)R射速率均衡,提升終端產(chǎn)品品質(zhì)穩(wěn)定性,進(jìn)一步凸顯氧化鋁靶材的應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。


氧化鋁靶材(Al?O?)的廣泛應(yīng)用

  1. 半導(dǎo)體制造

    半導(dǎo)體用氧化鋁靶材適配集成電路、CMOS 工藝,精準(zhǔn)匹配離子注入掩膜需求,提升器件耐壓性能與介電強(qiáng)度,符合 12 英寸晶圓鍍膜標(biāo)準(zhǔn),兼容臺(tái)積電 / 中芯國(guó)際主流工藝,廣泛應(yīng)用于晶圓級(jí)封裝及薄膜電容器,氧化鋁靶材成為半導(dǎo)體高端制造的核心耗材。

  2. 光學(xué)器件制造

    光學(xué)器件用氧化鋁靶材可制備 AR 膜、紅外濾光片、增透膜及光學(xué)保護(hù)膜,依托氧化鋁靶材高硬度與抗腐蝕性,有效增強(qiáng)光學(xué)元件耐磨性與抗腐蝕能力,保障光學(xué)系統(tǒng)在復(fù)雜環(huán)境下穩(wěn)定運(yùn)行。

     3.新能源領(lǐng)域

        光伏氧化鋁靶材沉積的 Al?O?薄膜,可作為晶體硅光伏電池鈍化層,助力轉(zhuǎn)換效率提升;在鋰離子電池中作為包覆層,在鈣鈦礦光伏電池中作為電子傳輸層 / 阻隔層,全面改            善器件效率與穩(wěn)定性,拓展了氧化鋁靶材的應(yīng)用場(chǎng)景。

     4.顯示面板

        顯示面板用氧化鋁靶材制備的薄膜硬度高、附著力強(qiáng),可制作顯示屏防刮涂層、精密儀器防護(hù)膜、工業(yè)模具硬化層,延長(zhǎng)設(shè)備使用壽命,降低后期維護(hù)成本,氧化鋁靶材成為            顯示面板產(chǎn)業(yè)的優(yōu)選耗材。


技術(shù)特性

  • 純度

    純度

    99.99%

  • 相對(duì)密度

    相對(duì)密度

    3.5 g/cm³

應(yīng)用場(chǎng)景

  • 半導(dǎo)體制造

    半導(dǎo)體制造

  • 光學(xué)器件制造

    光學(xué)器件制造

  • 新能源領(lǐng)域

    新能源領(lǐng)域

  • 顯示面板

    顯示面板

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