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碳化鉻靶材(CrC)

CrC target

眾誠達

陶瓷靶材

碳化鉻靶材(CrC)

膜層硬度高
高沉積速率

產品介紹

碳化鉻(CrC)是由鉻(Cr)與碳(C)元素形成的化合物,兼具金屬的導電特性與陶瓷的高硬度特性。以高純碳化鉻粉末為原料,經熱壓燒結或噴涂等工藝制成的碳化鉻靶材,具有高熔點、高強度和優異的熱穩定性,是高端鍍膜工藝的核心耗材。
在磁控濺射和物理氣相沉積(PVD)等鍍膜工藝中,碳化鉻靶材可實現高沉積速率,制備出致密、均勻且附著力強的膜層。碳化鉻靶材的鍍膜硬度高、耐磨性和耐腐蝕性突出,能有效提升基材表面的使用壽命與性能穩定性,彰顯碳化鉻靶材的核心優勢。
憑借優異的綜合性能,碳化鉻靶材廣泛應用于高端制造、航空航天、電子等領域,成為多行業高端涂層制備的優選材料。


碳化鉻(CrC)的優異特性

  • 硬耐磨,薄膜防護性能卓越

    碳化鉻靶材屬于超硬材料范疇,耐磨性是普通金屬薄膜(如 Cr、Ni)的 5-10 倍,用于刀具、模具、機械零件涂層時,可顯著提升部件抗磨損、抗咬合能力,延長使用壽命 3-5 倍,適配高速切削、干式摩擦等極端磨損場景,充分發揮碳化鉻靶材的防護價值。

  • 耐高溫抗氧化,適應嚴苛環境

    碳化鉻靶材具有優異的抗氧化性,可耐受高溫燃氣、熔融金屬、熱輻射等嚴苛環境,解決傳統材料高溫氧化、腐蝕失效的痛點,適配航空航天等高端領域的嚴苛使用需求

  • 化學穩定性極強,抗腐蝕能力突出

    碳化鉻靶材具有良好耐受性,不與多數金屬、非金屬發生化學反應,不易發生氧化、銹蝕或降解,進一步提升碳化鉻靶材的使用壽命和應用可靠性。

  • 濺射性能穩定,薄膜質量優異

    碳化鉻靶材具備高沉積速率:常規射頻濺射參數下,沉積速率達 50-150 nm/h(高端 SPS 碳化鉻靶材可達 120-200 nm/h),高于同類陶瓷靶材,適配批量工業化生產,凸顯碳化鉻靶材的生產優勢。

碳化鉻(CrC)的廣泛應用

  1. 硬質合金刀具涂層

    碳化鉻靶材用于刀具涂層,可使刀具壽命延長 3-5 倍,降低切削力 30% 以上,可承受 800-1000℃切削溫度,適配自動化生產線的高效加工(如汽車零部件批量切削、航空結構件精密加工),助力刀具行業升級。

  2. 航空發動機零部件涂層

    具體應用:渦輪葉片、燃燒室、導向葉片、渦輪盤、燃油噴嘴等高溫部件,碳化鉻靶材可抵御高溫燃氣沖刷、熱腐蝕和磨損,提升發動機熱效率和可靠性,延長零部件使用壽命 2-3 倍,降低航空運維成本,是航空航天領域的核心鍍膜材料。

  3. 半導體封裝與防護涂層

    碳化鉻靶材可保護芯片免受濕氣、灰塵、化學腐蝕和機械劃傷,保障器件電學性能穩定,提升半導體產品良率,適配半導體高端封裝的嚴苛要求。

  4. 油氣輸送與化工設備涂層

    碳化鉻靶材可解決管道 / 設備腐蝕、磨損問題,延長使用壽命 5-10 年,降低泄漏風險(尤其適用于深海油氣開采、高腐蝕化工介質傳輸),為油氣和化工行業提供可靠的防護解決方案。


技術特性

  • 純度

    純度

    99.9%

  • 致密度

    致密度

    ≥98%

應用場景

  • 硬質涂層與功能鍍膜

    硬質涂層與功能鍍膜

  • 航空航天

    航空航天

  • 半導體制造

    半導體制造

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