產品介紹
鏑靶材以高純鏑（Dy）為主要成分制備，是一種重要的稀土金屬濺射靶材。憑借高磁致伸縮性能、良好的熱穩定性及化學穩定性，鏑靶材被廣泛應用于磁性薄膜、光學鍍膜、半導體功能薄膜、核能及科研材料領域。通過真空熔煉和熱等靜壓（HIP）等先進工藝制備，靶材具備高致密度和均勻的顯微結構，可滿足高端電子和功能薄膜的嚴格要求。
鏑靶材的優異特性
高純度與高致密度
純度≥99.9%，靶材致密均勻，減少氣孔和夾雜，提高膜層質量。
優異磁致伸縮性能
鏑靶材在磁性材料和功能薄膜中可顯著提升磁性能。
熱穩定性好
高溫濺射環境下仍保持結構穩定，保證長期使用。
化學穩定性強
在真空或惰性氣氛下性能穩定，不易氧化或發生化學反應。
鏑靶材的廣泛應用
半導體制造
在半導體器件中用于制備特定磁學和電學性能的功能薄膜，優化器件性能和可靠性。
光學器件制造
用于高性能光學膜的制備，如反射膜、干涉膜等，提高光學元件的透光率、反射率及膜層穩定性。
磁性薄膜
鏑靶材廣泛應用于稀土磁性材料和巨磁阻（GMR）薄膜的制備，可顯著提升磁性器件的信息存儲密度和響應性能。
核能材料與科研
利用鏑的中子吸收特性，可用于核能相關薄膜材料及科研實驗中，滿足特殊功能性需求。
技術特性
高純度
99.9%
密度
8.54 g/cm³
應用場景
半導體制造
光學器件制造
磁性薄膜
核能材料及科研
聯系我們
