產品介紹
鏑靶材以高純鏑（Dy）為主要成分制備，是一種重要的稀土金屬濺射靶材。鏑靶材憑借高磁致伸縮性能、良好的熱穩定性及化學穩定性，鏑靶材被廣泛應用于磁性薄膜、光學鍍膜、半導體功能薄膜、核能及科研材料領域。鏑靶材通過真空熔煉和熱等靜壓（HIP）等先進工藝制備，鏑靶材具備高致密度和均勻的顯微結構，鏑靶材可滿足高端電子和功能薄膜的嚴格要求，是多領域高端功能性鍍膜的核心稀土靶材。
鏑靶材的優異特性
高純度與高致密度
鏑靶材純度≥99.9%，鏑靶材致密均勻，鏑靶材可減少氣孔和夾雜，鏑靶材提高膜層質量，滿足高端鍍膜工藝的嚴苛要求，彰顯鏑靶材的核心品質優勢。
優異磁性能
鏑靶材中的鏑元素在磁性材料中可顯著提升磁致伸縮和磁光性能，凸顯鏑靶材的磁學優勢，適配磁性薄膜等相關領域的應用需求。
熱穩定性強
鏑靶材在高溫濺射條件下保持結構穩定，鏑靶材可防止翹曲或開裂，保障鏑靶材濺射過程穩定，提升膜層制備效率與質量一致性，適配高溫鍍膜工況。
化學穩定性強
鏑靶材在真空或惰性氣氛中穩定，鏑靶材不易氧化或發生化學反應，提升鏑靶材在復雜環境中的應用可靠性。
鏑靶材的廣泛應用
半導體制造
鏑靶材可用于制備具有特定磁學和電學性能的功能薄膜，鏑靶材優化半導體器件表現，鏑靶材成為半導體高端制造不可或缺的關鍵材料，適配半導體先進制程需求。
光學器件制造
鏑靶材用于高性能光學膜層制備，鏑靶材可提高光學元件的反射率、透光率及膜層穩定性，鏑靶材適配高端光學領域需求，彰顯鏑靶材在光學領域的核心價值。
磁性薄膜
鏑靶材用于稀土磁性材料、GMR（巨磁阻）薄膜和磁光存儲器件，鏑靶材可提升存儲密度與磁響應性能，鏑靶材成為磁性薄膜領域的核心耗材，拓展鏑靶材的應用場景。
技術特性
高純度
99.9%
密度
8.23 g/cm³
應用場景
半導體制造
光學器件制造
磁性薄膜
聯系我們
