產品介紹
氧化鈮(Nb?O?)是一種高性能無機功能材料,常用于真空蒸發鍍膜、電子束蒸發等工藝中。該材料具有高折射率、優異的介電性能和良好的化學穩定性,廣泛應用于光學薄膜、電子器件及功能膜層的制備,是高端光學和微電子領域不可或缺的關鍵材料之一。
氧化鈮的優異特性
高折射率
氧化鈮薄膜折射率高,2.1-2.35(500nm),適合制備多層光學膜,如干涉膜、反射膜、濾光膜。
優良的介電性能
具備良好的透光性和低吸收特性,適用于可見光到近紅外波段的光學元件。
介電常數高
作為高k介質材料,能夠有效提高電容性能,滿足半導體器件小型化和高性能化需求。
化學穩定性強
在高溫、潮濕及化學腐蝕環境下仍能保持穩定性能,延長器件壽命。
氧化鈮的廣泛應用
半導體制造
作為高k介質材料,用于電容器、晶體管等核心元件,能夠實現更低功耗和更高性能的微電子器件。
光學器件制造
廣泛用于濾光片、增透膜、干涉膜、光學鏡頭鍍膜等高精度光學薄膜設計,可有效提升器件透過率和耐用性。
光伏行業
在薄膜太陽能電池中作為功能層,提高光電轉換效率,同時增強器件的穩定性和使用壽命。
技術特性

折射率
2.1-2.35(500nm)

透明波段
350-9000nm
應用場景
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