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展會回顧丨眾誠達2025年深圳光博會圓滿收官,期待明年再見!

2025.09.15

三天的相聚,轉瞬即逝,第二十六屆中國國際光電博覽會(CIOE中國光博會)于今日圓滿落下帷幕。在這場光電盛會上,眾誠達收獲了滿滿關注與支持,展位現場人氣高漲、交流熱烈。

讓我們一起通過照片回顧那些精彩瞬間,再次感受展會現場的熱情與活力!



  • 靶材產品及解決方案隆重亮相

    走進深圳國際會展中心7號館7A81,我們精心布置了展位 —— 整齊陳列的多款靶材產品,全面展現眾誠達的創新實力與產品魅力。

    作為主營濺射靶材、粉體及電子漿料等新材料的領軍企業,眾誠達產品廣泛覆蓋光伏太陽能光學、半導體、智能顯示、動力電池、稀土永磁節能玻璃、裝飾與工具鍍膜等科技領域,

    此次更是攜HBSi硅靶、Nb2OX氧化鈮靶、MoOX氧化鉬靶、GXO/GSO 高阻靶、CrN/TiN 金屬氮化物靶、CrC/TiB2黑色膜系碳化物靶材等多款最前沿產品亮相。

  • 硅靶材(HBSi)

    性能優勢:高純度與高致密度,膜層低反射率,高強度。

    應用:高端電子產品蓋板

  • 高阻靶(GXO/GSO)

    性能優勢:膜層阻值可調(106~109可任意調整)可靠性穩定

    應用:手機或者車載屏幕的高阻值抗干擾膜層

  • 氧化鉬靶材(MoOx)

    性能優勢:P型半導體特性、高透光性、電致變色效應

    應用:多種應用,如覆蓋金屬線的低反射(暗)薄膜;

               窄邊框液晶電視,黑色矩陣,金屬網觸摸傳感器;

               用于OLED的透明空穴注入層(HIL);

  • 金屬氮化物靶材(CrN/TiN)

    性能優勢:高沉積速率,膜層無發蒙

  • 黑色膜系碳化物靶材(CrC/TiB2)

    性能優勢:高沉積速率,膜層硬度高

    應用:金屬結構件表面硬質涂層與黑色涂層



  • 展會現場

    現場不少觀展者駐足展臺前,近距離觀察靶材的微觀結構,認真聆聽技術人員對各類靶材產品性能及應用的詳細講解,更有企業代表現場咨詢合作細節,展位內交流氛圍十分熱烈,充分展現出眾誠達新材料的吸引力。




借助此次展會,我們與眾多客戶和合作伙伴進行了高質量的交流,收獲了寶貴的認可和建議并拓展了新的合作關系。每一份信任與支持,都是我們不斷創新的動力。

展會雖然結束,但合作的序幕才剛剛拉開。我們期待未來與您攜手,共同探索新材料在各領域的無限可能。如果您在展會期間未能深入體驗或仍有任何問題與合作意向,歡迎留言或后臺私信聯系我們,深圳眾誠達的專業團隊將持續為您提供服務。