產品中心
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名稱：鎳靶材(Ni)中文名：鎳靶材(Ni)成型工藝：真空熔煉純度：99.99%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：半導體制造、磁性薄膜、裝飾鍍膜、光伏行業查看詳情
名稱：銦靶材(In）中文名：銦靶材(In）成型工藝：澆鑄純度：99.99%-99.999%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：半導體制造、光伏行業、顯示面板、光學器件查看詳情
名稱：鉭靶材(Ta)中文名：鉭靶材(Ta)成型工藝：熔煉純度：99.99%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：半導體制造、光學器件制造、硬質涂層與裝飾涂層、電子元器件查看詳情
名稱：硅靶材(Si)中文名：硅靶材(Si)成型工藝：噴涂、燒結、長晶純度：99.99%-99.999%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：光學器件制造、半導體制造、傳感器制造、人臉識別查看詳情
