產品中心
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名稱：鉿靶材(Hf)中文名：鉿靶材(Hf)成型工藝：熱壓燒結純度：99.9%-99.99%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：半導體制造、光學器件制造、核工業、航空航天及高溫防護查看詳情
名稱：鉬靶材(Mo)中文名：鉬靶材(Mo)成型工藝：熱壓燒結純度：99.95%-99.999%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：半導體制造、顯示面板、光伏行業、低輻射玻璃查看詳情
名稱：鋯靶材(Zr)中文名：鋯靶材(Zr)成型工藝：燒結純度：99.9%產品規格：平面靶材、旋轉靶材應用場景：半導體制造、光學器件制造、硬質涂層、核工業查看詳情
名稱：鎳鉻靶材(NiCr）中文名：鎳鉻靶材(NiCr）成型工藝：壓制、燒結純度：99.9%-99.99%產品規格：平面靶材、旋轉靶材、異形靶材應用場景：電子信息領域、能源領域、航空航天與高溫領域、精密制造與其他領域查看詳情
